דילוג לניווט ראשי דילוג לחיפוש דילוג לתוכן הראשי

Surface and implantation effects on p-n junctions

פרסום מחקרי: פרסום בכתב עת › מאמר › ביקורת עמיתים

2 ציטוטים ‏(Scopus)

תקציר

The contribution of the graded region of implanted p-n junctions is analysed using an exponential profile. Though previously neglected, the authors have recently shown that this contribution to the saturation current of HgCdTe diodes is significant. Assuming a dominant Auger recombination, an analytical solution to the continuity equation is obtained. An expression for the current generated by the graded region is presented for both ohmic and reflecting boundary conditions. A revised condition for a 'wide' region is derived. When the region is 'narrow', the current differs drastically from that of the zero-gradient case. The effects of the junction depth and the substrate and surface concentrations on the current are investigated. It is shown that the reverse current does not saturate.

שפה מקוריתאנגלית
מספר המאמר010
עמודים (מ-עד)S41-S44
כתב עתSemiconductor Science and Technology
כרך5
מספר גיליון3 S
מזהי עצם דיגיטלי (DOIs)
סטטוס פרסוםפורסם - 1990
פורסם באופן חיצוניכן

טביעת אצבע

להלן מוצגים תחומי המחקר של הפרסום 'Surface and implantation effects on p-n junctions'. יחד הם יוצרים טביעת אצבע ייחודית.

פורמט ציטוט ביבליוגרפי