דילוג לניווט ראשי
דילוג לחיפוש
דילוג לתוכן הראשי
אוניברסיטת אריאל בשומרון בית
עזרה ושאלות נפוצות
English
עברית
العربية
בית
פרופילים
יחידות מחקר
פרסומים מחקריים
פרסים
פעילויות
חיפוש לפי מומחיות, שם או שיוך
Sintering BFO targets for RF sputtering
G. Orr, A. Goryachev,
G. Golan
הנדסת חשמל ואלקטרוניקה
פרסום מחקרי
:
פרסום בכתב עת
›
מאמר
›
ביקורת עמיתים
1
ציטוט (Scopus)
סקירה כללית
טביעת אצבע
טביעת אצבע
להלן מוצגים תחומי המחקר של הפרסום 'Sintering BFO targets for RF sputtering'. יחד הם יוצרים טביעת אצבע ייחודית.
מיון לפי
משקל
לפי סדר האלפבית
Keyphrases
RF Sputtering
100%
BiFeO3
100%
Phase Content
66%
Sodium Chloride
33%
Iron Oxide
33%
XRD Analysis
33%
Rapid Sintering
33%
XRD Measurements
33%
Bismuth Oxide
33%
Material Science
Bismuth Ferrite
100%
Phase Composition
100%
Sintering
100%
X-Ray Diffraction
25%
Engineering
Phase Composition
100%
Sintering
100%