דילוג לניווט ראשי
דילוג לחיפוש
דילוג לתוכן הראשי
אוניברסיטת אריאל בשומרון בית
עזרה ושאלות נפוצות
English
עברית
العربية
בית
פרופילים
יחידות מחקר
ציוד
פרסומים מחקריים
פרסים
פעילויות
חיפוש לפי מומחיות, שם או שיוך
Short-Time Failure of Metal Interconnect Caused by Current Pulses
James E. Murguia
,
Joseph B. Bernstein
פרסום מחקרי
:
פרסום בכתב עת
›
מאמר
›
ביקורת עמיתים
40
ציטוטים (Scopus)
סקירה כללית
טביעת אצבע
טביעת אצבע
להלן מוצגים תחומי המחקר של הפרסום 'Short-Time Failure of Metal Interconnect Caused by Current Pulses'. יחד הם יוצרים טביעת אצבע ייחודית.
מיון לפי
משקל
לפי סדר האלפבית
Keyphrases
Current Pulse
100%
Metal Interconnect
100%
Current Density
66%
Signal Level
66%
Thermal Equilibrium
66%
Metallization
66%
Temperature Rise
33%
Reliability Study
33%
Energy Conservation
33%
Pulse Duration
33%
Oxides
33%
Al-Si
33%
Silicon Substrate
33%
New Criteria
33%
Metal Line
33%
Programming Current
33%
Thermal Oxide
33%
Maximum Current Density
33%
Oxides on Silicon
33%
Oxide Thickness
33%
High Current Pulse
33%
Current-induced Heating
33%
Voltage Programming
33%
Interconnect Reliability
33%
Engineering
Current Pulse
100%
Interconnects
100%
Thermal Equilibrium
66%
Metallizations
66%
Signal Level
66%
Periodic Time
33%
Temperature Rise
33%
Reliability Study
33%
Silicon Substrate
33%
Pulse Duration Time
33%
Oxide Thickness
33%
Induced Heating
33%
Material Science
Density
100%
Oxide Compound
100%
Silicon
33%
Chemical Engineering
Metallizing
100%