דילוג לניווט ראשי
דילוג לחיפוש
דילוג לתוכן הראשי
אוניברסיטת אריאל בשומרון בית
עזרה ושאלות נפוצות
English
עברית
العربية
בית
פרופילים
יחידות מחקר
ציוד
פרסומים מחקריים
פרסים
פעילויות
עיתונות/תקשורת
חיפוש לפי מומחיות, שם או שיוך
Novel method of low-vacuum plasma triode sputtering
G. Golan
, A. Axelevitch
פרסום מחקרי
:
פרסום בכתב עת
›
מאמר
›
ביקורת עמיתים
9
ציטוטים (Scopus)
סקירה כללית
טביעת אצבע
טביעת אצבע
להלן מוצגים תחומי המחקר של הפרסום 'Novel method of low-vacuum plasma triode sputtering'. יחד הם יוצרים טביעת אצבע ייחודית.
מיון לפי
משקל
לפי סדר האלפבית
Keyphrases
Triode
100%
Low Vacuum
100%
Vacuum Arc Plasma
100%
Langmuir Probe
50%
Pressure Range
50%
Sputtering Method
50%
Temperature Distribution
50%
Plasma Method
50%
Ti Layer
50%
Sputtering Rate
50%
Si Layer
50%
Gas Discharge
50%
Physics
Triode
100%
Low Vacuum
100%
Blood Plasma
100%
Thin Films
33%
Electrostatic Probe
33%
Gas Discharges
33%
Temperature Distribution
33%
Engineering
Thin Films
100%
Pressure Range
100%
Temperature Distribution
100%
Chemical Engineering
Temperature Distribution
100%
Film
100%
Material Science
Thin Films
100%