Effect of stress interruption and pulsed biased stress on ultra-thin gate dielectric reliability

Bin Wang, J. S. Suehle, E. M. Vogel, J. B. Bernstein

פרסום מחקרי: תוצר מחקר מכנסהרצאהביקורת עמיתים

6 ציטוטים ‏(Scopus)

טביעת אצבע

להלן מוצגים תחומי המחקר של הפרסום 'Effect of stress interruption and pulsed biased stress on ultra-thin gate dielectric reliability'. יחד הם יוצרים טביעת אצבע ייחודית.

Keyphrases

Material Science

Physics

Engineering