Acceleration factors and mechanistic study of progressive breakdown in small area ultra-thin gate oxides

J. S. Suehle, B. Zhu, Y. Che, J. B. Bernstein

פרסום מחקרי: פרסום בכתב עתמאמר מכנסביקורת עמיתים

19 ציטוטים ‏(Scopus)

תקציר

Two post soft breakdown modes are studied: one in which the conducting filament is stable until hard breakdown occurs and one in which the filament continually degrades with time. Acceleration factors are different for each mode, indicating different physical mechanisms. The results suggest that the "hardness" of the first breakdown influences the residual time distribution of the following hard breakdown. Tunneling current appears to be the driving force for both modes.

שפה מקוריתאנגלית
עמודים (מ-עד)95-101
מספר עמודים7
כתב עתIEEE International Reliability Physics Symposium Proceedings
סטטוס פרסוםפורסם - 2004
פורסם באופן חיצוניכן
אירוע42nd Annual IEEE International Reliability Physics Symposium, IRPS 2004 - Phoenix, ארצות הברית
משך הזמן: 25 אפר׳ 200429 אפר׳ 2004

טביעת אצבע

להלן מוצגים תחומי המחקר של הפרסום 'Acceleration factors and mechanistic study of progressive breakdown in small area ultra-thin gate oxides'. יחד הם יוצרים טביעת אצבע ייחודית.

פורמט ציטוט ביבליוגרפי