تخطي إلى التنقل الرئيسي
تخطي إلى البحث
تخطي إلى المحتوى الرئيسي
الصفحة الرئيسية
المساعدة والأسئلة الشائعة
English
עברית
العربية
الصفحة الرئيسية
الملفات الشخصية
الوحدات البحثية
نتاج البحث
الجوائز
أنشطة
البحث حسب الخبرة أو الاسم أو الانتماء
Short-Time Failure of Metal Interconnect Caused by Current Pulses
James E. Murguia,
Joseph B. Bernstein
نتاج البحث
:
نشر في مجلة
›
مقالة
›
مراجعة النظراء
40
اقتباسات (Scopus)
معاينة
بصمة
بصمة
أدرس بدقة موضوعات البحث “Short-Time Failure of Metal Interconnect Caused by Current Pulses'. فهما يشكلان معًا بصمة فريدة.
فرز حسب
الوزن
أبجديًا
Keyphrases
Current Pulse
100%
Metal Interconnect
100%
Current Density
66%
Signal Level
66%
Thermal Equilibrium
66%
Metallization
66%
Temperature Rise
33%
Reliability Study
33%
Energy Conservation
33%
Pulse Duration
33%
Oxides
33%
Al-Si
33%
Silicon Substrate
33%
New Criteria
33%
Metal Line
33%
Programming Current
33%
Thermal Oxide
33%
Maximum Current Density
33%
Oxides on Silicon
33%
Oxide Thickness
33%
High Current Pulse
33%
Current-induced Heating
33%
Voltage Programming
33%
Interconnect Reliability
33%
Engineering
Current Pulse
100%
Interconnects
100%
Thermal Equilibrium
66%
Metallizations
66%
Signal Level
66%
Periodic Time
33%
Temperature Rise
33%
Reliability Study
33%
Silicon Substrate
33%
Pulse Duration Time
33%
Oxide Thickness
33%
Induced Heating
33%
Material Science
Density
100%
Oxide Compound
100%
Silicon
33%
Chemical Engineering
Metallizing
100%