Effect of stress interruption and pulsed biased stress on ultra-thin gate dielectric reliability

Bin Wang, J. S. Suehle, E. M. Vogel, J. B. Bernstein

نتاج البحث: نتاج بحثي من مؤتمرمحاضرةمراجعة النظراء

6 اقتباسات (Scopus)

بصمة

أدرس بدقة موضوعات البحث “Effect of stress interruption and pulsed biased stress on ultra-thin gate dielectric reliability'. فهما يشكلان معًا بصمة فريدة.

Keyphrases

Material Science

Physics

Engineering