Acceleration factors and mechanistic study of progressive breakdown in small area ultra-thin gate oxides

J. S. Suehle, B. Zhu, Y. Che, J. B. Bernstein

نتاج البحث: نشر في مجلةمقالة من مؤنمرمراجعة النظراء

17 اقتباسات (Scopus)

ملخص

Two post soft breakdown modes are studied: one in which the conducting filament is stable until hard breakdown occurs and one in which the filament continually degrades with time. Acceleration factors are different for each mode, indicating different physical mechanisms. The results suggest that the "hardness" of the first breakdown influences the residual time distribution of the following hard breakdown. Tunneling current appears to be the driving force for both modes.

اللغة الأصليةالإنجليزيّة
الصفحات (من إلى)95-101
عدد الصفحات7
دوريةIEEE International Reliability Physics Symposium Proceedings
حالة النشرنُشِر - 2004
منشور خارجيًانعم
الحدث42nd Annual IEEE International Reliability Physics Symposium, IRPS 2004 - Phoenix, الولايات المتّحدة
المدة: ٢٥ أبريل ٢٠٠٤٢٩ أبريل ٢٠٠٤

بصمة

أدرس بدقة موضوعات البحث “Acceleration factors and mechanistic study of progressive breakdown in small area ultra-thin gate oxides'. فهما يشكلان معًا بصمة فريدة.

قم بذكر هذا